设备名称 Equipment Name

单晶槽式制绒设备 Batch-type Mono-crystalline Texturing Equipment

设备型号 Equipment Model

SC-CSZ12000F-16G

设备用途 Equipment Application

主要对单晶硅太阳能电池用硅片进行绒面腐蚀和清洗处理。

Used for texturing& cleaning of mono crystalline wafers.

工艺流程 Process Flow

去损伤→预清洗→单晶制绒→后清洗或O3清洗→酸洗→预脱水→烘干（供参考）  

Saw damage removal→Pre-cleaning→Mono-texturing→Post-cleaning/O3 cleaning→Acid cleaning→Hot water drying→Drying (for reference only)

技术特点  Features

1、产能：600片/批， 12000片/小时——210硅片（100片花篮）；720片/批，15000片/小时——182硅片（120片花篮）。

Throughput:600pcs/batch,12000pcs/h——210 wafer(100pcs cassette),720pcs/batch,15000pcs/h——182 wafer(120pcs cassette).

2、工艺槽循环量可调。

Process bath circulation volume adjustable.

3、制绒金字塔均匀，刻蚀深度可调。

Uniform pyramids texture, etch depth adjustable.

4、支持最薄120μm硅片。

Wafer thickness handling capability up to 120μm.

5、洁净干燥区域，自洁净干燥系统。

With clean dry area and self-clean dry system.

6、低H2O2消耗。

Low H2O2 consumption.

7、快速换液，在线换液。

Quick inline bath change.

8、支持MES、RFID及选配在线称重功能。

Available with MES, RFID system, inline weight testing optional.

设备参数 Parameters